FotonMag

Před nějakou dobou jsme tu představovali profesionální dobíjecí čelovku Fenix HM75R, jejíž předností je zejména spojení vysoce výkonného dálkového, šířkového a červeného reflektoru. Její další zvláštností je také přidání druhého, záložního zdroje napájení pro extra dlouhou výdrž čelovky při akci (např. záchranářské práce, jeskyňářství, noční údržbové práce apod.).

Nová speciální verze HM75R „Topaz“ v principu zachovává původní slušnou výkonnost čelovky, avšak odstraňuje ono sekundární bateriové pouzdro, které nemusí vyhovovat každému uživateli. Díky tomu čelovka snižuje celkovou hmotnost se vším všudy téměř o polovinu (z původních 321 g na 172 g) a pořizovací cenu o více než čtvrtinu. Zároveň však verze Topaz tento krok kompenzuje zvýšením kapacity základního akumulátoru typu 18650 z původních 3400 mAh na 4000 mAh. Zájemci si nicméně mohou sekundární bateriové pouzdro s dodatenou kapacitou 5000 mAh dokoupit zvlášť – lze jej používat třeba i jako powerbanku pro libovolná zařízení na USB.

Maximální výstup dálkového reflektoru s LED Luminus SST-40 zůstává 1600 lumenů na vzdálenost 223 metrů – nyní se však díky lepšímu akumulátoru značně prodlužuje délka svícení (například z 1,5 h na 2,5 h v režimu Turbo, nebo z 11 h na 15,5 h v režimu Medium). Navíc se změnila i barevná teplota z původní studené na neutrálnější bílou (4500 K).

Podobnou změnou prošel i šířkový reflektor osazený dvěma LED Luminus SST-20 s maximálním výstupem 1000 lumenů na vzdálenost 60 metrů. Zde se rovněž jedná o značné „zteplání“ kužele světla na zhruba 3000 K, což už se hodně blíží teplotě světla klasických vláknových žárovek. Použitá LED navíc vykazuje vysoký index kvality podání barev CRI 94,5. Tyto vlastnosti mohou značně zlepšit viditelnost i za nepříznivého počasí, jako je déšť, mlha či sníh.

Další spíše už menší změnou je také úprava červeného světla, které teď dokáže výstražně blikat dvakrát jasněji (z původních 5 lm na 10 lm). Maximální světelný tok zde zůstává 120 lumenů.

Fenix HM75R Topaz je plně vodotěsná dle standardu IP68 a odolná proti pádům z výšky 2 metrů. Pro jistější připevnění čelovky na přilbu lze dokoupit speciální držáky (buď samolepící nebo na NVG montáž). Cena nové verze Topaz je 3 199 Kč včetně DPH (původní verze čelovky stojí 4 399 Kč).

Zdroj: kronium.cz

Špičkové čipy v současnosti patří mezi obchodně i strategicky nedůležitější produkty na Zemi. Drtivá většina z nich se vyrábí v té vůbec nejhodnotnější asijské technologické společnosti – tchajwanské TSMC. Ta k jejich výrobě používá velice složitou a nákladnou EUV litografii (Extreme UltraViolet), na kterou se pro změnu specializuje nejhodnotnější evropská technologická společnost – nizozemská ASML. V blízké budoucnosti by se však tato situace, která mimochodem vytváří značné geopolitické napětí, mohla razantně proměnit.

Srovnání stávající a nové zjednodušené EUV litografie

Japonští vědci z Okinawského institutu pro vědu a technologii (OIST) vyvinuli novou verzi EUV litografie, která obsahuje méně součástek a je energeticky efektivnější. Zatímco současné stroje od Holanďanů „vypalují“ čipy do křemíkových waferů pomocí složité soustavy šesti zrcadel, nová japonská verze používá trochu jiný optický systém jen se dvěma zrcadly (viz ilustrace). Díky menšímu počtu částí tak budou nové stroje levnější i méně náchylné k poruše. Také si vystačí s desetkrát slabším zdrojem tzv. extrémního ultrafialového záření (20 W oproti stávajícím 200 W), čímž se rovněž snižuje i náročnost na chlazení. Podle vyjádření Okinawského institutu se teď nově až 10 % EUV záření dopadne na samotný wafer, oproti stávajícímu 1 %.

Nové stroje tak ve výsledku budou až desetkrát energeticky efektivnější – ty současné od ASML mají gigantickou spotřebu přes 1 MW, přičemž Tchajwanci jich vlastní desítky a neustále zvyšují kapacity. Pořizovací náklady strojů mají být nejméně o polovinu nižší, údajně nepřesáhnou 100 milionů USD. A jestliže takto rapidně klesne cena strojů i jejich provozu (elektřina, údržba, delší životnost EUV zářičů), pak se to samozřejmě propíše i do ceny špičkových čipů, které nalezneme ve všem možném od smartphonů přes počítače až po balistické střely.

Principy fotolitografie a tiskové litografie (credit: Canon)

OIST již požádal o patent a chystá se na demonstrativní experimenty. V technologickém soupeření však tento institut není zcela sám. Proslulý japonský výrobce foťáků, tiskáren a optiky Canon již loni oznámil vývoj vlastní technologie na výrobu špičkových 5 nm čipů, která bude fungovat na principu nanotiskové litografie (nanoimprint litography).

Ve výsledku se tak může značně oslabit dominantní pozice ASML, což se pak zajisté nějak dotkne i takových technologických gigantů jako je TSMC, Samsung, Intel, AMD a Apple nebo také vývoje umělé inteligence. Pojmy jako „technologický přelom“ a „revoluce“ se sice v posledních letech značně nadužívají, v tomto případě se však zdají být oprávněné.

Zdroje: ledinside.com, oist.jp, datacenterdynamics.com, global.canon